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据悉,ASML之所以没有展示新的EUV光刻机,主要是因为他们目前仍不能向中国出口EUV光刻机,而此次展示的DUV光刻机可生产7nm及以上制程
ASML此次也带来了其整体光刻解决方案,包括先进控制能力的光刻机台计算光刻和测量通过建模、仿真、分析等技术,让边缘定位精度不断提高。
在这之前,ASML CFO Roger Dassen在财报会议的视频采访中谈到了与中芯国际等中国客户的业务情况,其表示一些情况下,出口光刻机是不需要许可证的。
Roger Dassen指出,ASML了解美国当局目前的规章制度及其解释,当然也知道这些与特定的中国客户密切相关,但如果广泛的来理解其规章制度对ASML的总体含义(对于特定的中国客户),则意味着ASML将能够从荷兰向这些中国客户提供DUV光刻系统,且无需出口许可证。
美国仅仅是限制了美国不能给中国出口芯片、光刻机等,但并没有限制其他国家对中国进口,荷兰并不在美国的禁令范围内。
目前的光刻机主要分为EUV光刻机和DUV光刻机。DUV光刻机,分为干分式与液浸式两种。其中,液浸式于ASML手中诞生,其波长虽然有193nm,但等效为134nm,经过多重曝光后,液浸式光刻机也能够达到7nm工艺。但是,每多一次曝光都会使得制造成本大大提升,而且良品率也难以控制。
EUV光刻机采用13.5nm波长的光源,是突破10nm芯片制程节点必不可少的工具。也就是说,就算DUV(深紫外线)光刻机能从尼康、佳能那里找到替代,但如果没有ASML的EUV光刻机,芯片巨头台积电、三星Intel的5nm产线就无法投产。
***将禁运,国产半导体设备发展别无选择 /
来源:AIot工业检测,谢谢 编辑:感知芯视界 Link 随着芯片需求的
,大家还记得美国荷兰日本的三方协议吗?来回忆一下。 随着芯片在各个领域的重要性
提升,人们对芯片制造的关注也日益增加。 但半导体产业链非常复杂,不仅仅涉及到底层的架构设计,还需要通过
激增10多倍后,美国官员联系了荷兰政府。荷兰外交发言人表示,出口许可证是根据荷兰国家安全逐案评估的。
进博会 /
产品共有三款,分别是TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN NXT:2000i、TWINSCAN NXT:2050i。
***仍可向中国出口! /
将面临更严格的设备维修、备件提供限制 /
系统改造,而 1980Di 是 10 年前推出的旧型号,不在本次官方禁令范围内。1980Di 是
。 荷兰政府的限制先进半导体设备出口新规将于9月1日生效。这一事件引发了市场猜测
***?? /
***;英伟达或将部分AI GPU订单外包三星 /
系统需要许可证 芯片战愈演愈烈。荷兰正式实施半导体出口管制条款,这将对
系统需要许可证 /
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